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光刻装备事业部
显示及激光装备事业部
光刻装备事业部
第三代半导体事业部
被动元件光刻机
产品描述
产品参数
功能概述：
电感电路、元器件等方片基材曝光应用
特点优势：
● 双工位高效率曝光，生产节拍可达9秒+曝光时间。
● LED光源寿命长，光源均匀稳定。
●自研高准直平行光光源，线宽分辨率3µm。
性能名称
技术指标
分辨率L/S
10µm
对准精度
≤±1µm
线宽精度
<10%
产能
>500WPH (8寸)
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